왜 Plasma에 대해 알아야 하는가?

소개글

박막을 형성하는데 plasma가 매우 중요하고, 이에대한 관련 자료입니다.

목차

1. plasma정의
2. 생성원리
3. 일어나는 현상
4. 특성
5. Film Deposition
6. 결론

본문내용

저는 박막을 형성하는데 plasma가 매우 중요하다고 생각해서 이에 대해 조사하였습니다.
그 이유는 plasma를 이용한 공정의 장점에 대해 살펴보면 알 수 있습니다. 우선, plasma를 이용하면 기판 전체에 균일한 두께의 박막을 형성시킬 수 있습니다. 물리적 기상 증착방법인 Sputtering과 Pulsed Laser Deposition(PLD)를 비교해보면, PLD는 원하는 조성을 가진 target을 laser로 에너지를 가해 기상으로 만든 뒤 target 아래에 위치한 기판 위에 박막을 형성시킵니다. 이 때 laser와 target이 만나는 점과 가장 가까이 위치한 기판의 한 점에 가장 많은 양의 target 물질이 형성되어 전체적으로 균일하지 못합니다. 하지만 sputtering은 target 아랫부분에서 거의 균일한 농도의 plasma가 생성되어 ion이 target 물질에 물리적 힘을 가하기 때문에 전체적으로 일정한 두께의 박막이 형성됩니다.
또한, plasma에서 ion이 가속되어 물리적 힘을 가하는 대상이 target인지 혹은 박막이 형성된 기판인지에 따라서 sputtering이 되거나 물리적 etching을 합니다. 즉 박막을 형성시키거나 형성된 박막을 etching하는 원리가 동일하여 한 공정 내에서 두 가지 작용을 할 수 있다는 장점이 있습니다.
마지막은 CVD나 evaporation과 같은 공정과 달리 저온에서 공정이 가능하다는 것 입니다. CVD의 경우 여러 물질이 서로 화학반응을 하기 위해 반응에너지가 필요한데 이를 열에너지로서 공급하고 있습니다. 즉 고온에서 공정이 이루어져야 합니다. 하지만 sputtering에서는 chamber 내부의 압력과 전극의 양단의 전위차이가 plasma의 밀도를 결정하며 온도는 크게 중요하지 않습니다. 저는 이것이 가장 중요한 장점이라고 생각합니다.

참고 자료

없음