스퍼터링

소개글

금속재료 스퍼터링 실험 결과보고서입니다.

목차

1.실험목적
2.기초이론 및 원리
3.준비 기구 및 장치
4.실험과정
5.실험결과
6.토의 및 고찰
7.인용 및 참고문헌

본문내용

1. 실험 목적
스퍼터링은 박막 태양전지 외에도 반도체, LCD, 유기EL등의 평판 디스플레이, CD, HD, MD 등의 각종 기록매체, 휴대폰, 정밀, optic lens, 장식 내마모 내식성 기능막, 자외선 방지 필름 coating 등의 제작 공정에 없어서는 안 될 공정이다.
Sputtering공정 실험의 결과물을 통하여 전기저항 및 증착두께를 측정해보고, 저항과 두께의 차이에 어떠한 상하관계가 있는지 공정변수와 관련지어 알아보도록 한다.

2. 기초이론 및 원리
1)스퍼터링(sputtering)이란?

<중 략>

알파스텝으로 두께를 측정한 뒤 에닥스 실험을 통해 시편에 코팅 된 박막 물질을 분석하는 작업을 했다. 에닥스는 일반적으로 전자를 만들어 낼 수 있는 장비에 장착하여 검출기 형태로 사용된다. 에닥스 실험으로 그래프를 많이 얻을 수 있었는데 Ti 준위가 가장 높은 그래프를 뽑아 불순물의 성분을 분석해보았다. 티타늄과 산소 이외에도 칼슘, 주석 및 규소도 상당히 많은 양의 불순물을 지니고 있다고 해석할 수 있는데 이 원인은 세척과정에서 꼼꼼히 하지 못한 듯하며, 이동 중 공기중의 여러 물질이 유리기판에 붙어서 불순물이 생겨났다고 볼 수 있다.
1~4조의 스퍼터링 박막증착 결과값을 가지고 흡수율과 투과율 그래프를 비교해보면 증착 두께가 얇을수록 흡수율이 낮고 투과율이 높은 양상을 보였다.

참고 자료

없음