감광성 폴리머의 제조기술 소개

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감광성 폴리머의 제조기술 및 응용
포토레지스트 소개

목차

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본문내용

1) 광 및 방사선 에너지의 작용으로 물리적, 화학적 변화가 일어나는 고분자 조성물 또는 광
조사에 의하여 고분자 물질로 형성되는 화합물의 조성물계를 지칭한다.
2) 광조사에 의하여 단시간 내 분자 구조의 화학적 변화가 일어나 어떤 용제에 대한 용해도
변화(가용화 또는 불용성화), 착색, 경화 등의 물성 변화가 생기는 조성고분자의 조성물계
3) 미세정밀가공이 가능, 종래의 열에 의한 작업보다 에너지 및 원료의 절감이 이루어질 수
있고, 작은 설치 공간에서 작업을 깨끗이 신속·정확하게 수행 가능
Photopolymer 응용
▶인쇄 재판를 중심으로 개발
금속의 정밀 부식 가공, 고집적 반도체, 인쇄회로 기판 가공용 레지스트 재료, 인쇄재판용
감광재료 및 전자표시 장치 브라운관과 LCD의 칼러 화면 가공용 포토레지스트 재료,
도료, 접착제 등의 분야에까지 널리 이용되는 대표적인 고기능 수지.
Photo Polymer의 기능
기능
사진적인 화상을 형상 - 인쇄용 감광재 photo resist → 감도(해상도, 현상성)
경화피막을 만든다 (광경화 기능, 광흡수로 경화→광투과성, 흡수, 경화속도 (감도))
붕괴노화한다 (광붕괴 기능, posi의 화상 형성에서 중요 기능)
타반응을 촉매 (광붕괴의 증감 기능) 표면 개질
분류
감광성 화합물 + 고분자
고분자에 공존하는 감광성 화합물이 고분자의 변화를 유도하는 경우
방향족 디아조 화합물 디아조 카피, 복사용 감광재료
방향족 아지도 화합물 - novolac계 Posi형 Photoresist 반도체 공정에 대량으로 상용
광중합 개시제, 광산염기 발생제 etc.
감광기를 가진 고분자 (Photopolymer의 협소한 의미)
이중 결합의 광이량화를 이용
감광기를 측쇄로 pendant한 것
고분자 중합시 측쇄에 결합
감광기를 가진 모노머를 중합(품질 설계가 용이하다)
Photo Polymer의 분류
Ketene구조를 거쳐 5원환 카르본산을 만들어 가용화함. Posi형 감광기의 대표, 안정, 320~470nm
o-quinonediazide
아지드기와 동량의 N2를 방출하여 활성화
양이온성을 띠며 음이온과 염 생성
diazo
방향족에 직접 결합한 것은 안정
감도 높다

참고 자료

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