Solid-State Photo Lithography 개요 및 졸업논문

목차

Ⅰ. 緖 論
1. 주제 선정 이유

Ⅱ. 本 論
1. Photo lithography
2. 사용 부품 리스트
3. 설계 과정 및 실험
4. 실 험 결 과

Ⅲ. 結 論
1. 고 찰

참고문헌

본문내용

緖 論
1. 주제 선정 이유
apstone Design 주제를 Photo lithography로 정한 이유로는 전기공학도로서 기판 및 소자를 실험시간과 설계시간에 많이 이용하는데, 정작 이 기판 및 소자가 어떠한 방식으로 만들어지는지 잘 알지 못하는 경우가 많다. 이 점에 기인하여 기판 및 소자를 어떠한 공정을 거쳐 만들어지는지 찾아보던 와중에 Photo lithography라는 기술을 알게 되었다. 이 기술에 사용되는 장비는 최소 수억에서 최대 수백억에 달하는 아주 고가의 장비로서 반도체 회사에서나 사용을 하기 때문에 쉽게 접할 수 없는 장비이다.
그러나 우리 조에서 만들려는 Solid-State Photo lithography 장비는 UV(Ultra Violet) LED와 몇 개의 부속품만으로 기존 Photo lithography장비에 준하는 정밀도를 얻을 수 있고, 저렴하게 만들 수 있다. 그렇기 때문에 이 장비를 만들어 학과 실험실에 비치하면 학생들이 Photo lithography라는 공정을 통해 반도체 소자가 만들어진다는 것을 이해하면서 수업을 들을 수 있기 때문에, 학업 증진에 효과가 있을 것이라 생각하여 만들어 보기로 했다.
그리고 지도교수님과의 상의 결과 복잡하지 않으면서도 우리가 사용하는 소자에 대해서도 정확히 인지할 수 있는 기회가 될 것이고, 아이디어가 있는 소재를 Capstone Design 주제로 잡는 것이 좋을 것 같다는 판단을 내렸기 때문에 최종적으로 Solid-State Photo lithography 장비를 만들어보는 것으로 결론을 내렸다.

本 論
2. Photo lithography
1) 개요
lithography는 'Litho(돌) + graphy(그림, 글자)'의 합성어로 석판술을 뜻하며, Photo lithography는 양자로 lithography를 한다는 뜻이므로『노광기술 또는 노출기술』이라고도 한다. Silicon Wafer 위에 감광 성질이 있는 Photoresist 빛을 조사하면 화학반응을 일으키는 재료. 집적회로의 생산에 없어서는 안 되는 재료 중 하나.

참고 자료

『물리과학 첨단기술』,「나노스케일 3D형상 패터닝기술」, 이재종․장원석
「나노패턴 응용 유기태양전지 연구동향 Ⅰ」, 한국 기계 연구원, 최대근
「나노패턴 응용 태양전지 연구동향Ⅱ」, 한국 기계 연구원, 최대근
「그래핀과 나노 패터닝」, 중앙대학교 화학신소재공학부, 김수영
『wileyonlinelibrary.com』「A Portable, Benchtop Photolithography System Based on a Solid-State Light Source」, Northwestern University Department of Materials Science and Engineering, M.D.Huntington‧Prof.T.W.Odom, 2011.12.09.
『NANO LETTERS』「Nanoscale InGaSb Heterostructure Membranes on Si Substrates for HighHole Mobility Transistors」 , Kuniharu Takei 외 12명
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