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spin coating

*상*
최초 등록일
2008.07.25
최종 저작일
2008.04
22페이지/한글파일 한컴오피스
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소개글

Ⅰ. Spin Coating 이란?
1) Spin Coating 내용 및 장점
(1) 내용 : Spin Coating법은 Sol을 회전되는 기판 위에 분사한 후 건조와 열

목차

Ⅰ. Spin Coating 이란?
1) Spin Coating 내용 및 장점
2) Spin Coating의 공정 및 방법
3) Spin Coating에서의 결함

Ⅱ. Photo Resistor 이란?
1) PR의 정의
2) PR의 분류 및 재료
3) PR의 요구특성
4) PR의 종류와 각각의 특성, 차이점

Ⅲ. 실험내용 및 데이터
1) 실험목적
2) 이론-관련이론요약
3) 기구 및 시약
4) 실험준비 및 주의사항
5) 실험방법

Ⅳ. 실험결과 및 고찰
1) 실험결과
2) 고찰

본문내용

Ⅰ. Spin Coating 이란?
1) Spin Coating 내용 및 장점
(1) 내용 : Spin Coating법은 Sol을 회전되는 기판 위에 분사한 후 건조와 열
처리 과정을 거쳐 박막을 형성하는 방법으로 물질의 얇은 박막으로코팅되어진 평면인 물제로 구성된 장치에 많이 사용된다. 여기에 코팅재료로 쓰이는 물질들은 어떠한 용매에 용해가 되거나 혹은 액체상태로 존재할 수 있는 물질이어야 한다. 그래야만 Spin Coater를 이용하여 코팅 시킬때 코팅재료들이 처져나가면서 코팅이 가능하다. 스핀코터(Spin-Coater)는 물체는 회전시켜서 물체 위에 올려진 액체를 원심력 때문에 밖으로 밀려나게 하는 방법으로 물체에 임의의 액체를 코팅하는 방법이다. 이 방법은 감광액(제)을 도포를 하는데 즉 PR(Photo-Resistor)를 코팅시키는 것이다. 스핀코터에 의해 사용하는 액체는 물론 액체의 점도가 적당히 있어야 하기 때문에 감광제는 유기화합물이다. 하지만 SiO2막이 무기물이기 때문에 막 위에서의 접착력이 충분히 않다. 그러므로 현상 이후의 식각공정에서 표면으로부터 벗겨든지 또는 측면 식각이 생기기 때문에 패턴가공을 어렵게 한다. 그래서 감광제를 도포하기 전에 SiO2막과 감광막 사이의 밀착성으로 향상시키기 위해 진공상태에서 HMDS(Hexa-methyl distance)라 불리는 유기막을 도포 또는 증기상태로 웨이퍼에 묻힘으로써 소수성화된 표면과 감광막과의 접착력을 향상시키는 공정이다. 즉 감광제의 도포는 빛이 투사되면 그 분자구조가 변화하는 감광성 수지를 가리키며, 그 수지 성분을 웨이퍼 표면에 균일하고 얇게(0.4~1.6㎛)정도 입히는 공정에 스핀코터가 쓰인다. 감광제에 따라 그특성을 달리하여 스핀코터의 RPM을 조절해야 한다. 스핀코터는 약 1000rpm에서 10000rpm정도 사이를 사용하고 가변저항으로 회전수를 조절할 수 있다.

참고 자료

없음
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