Developing, Etching, Stripping

소개글

ITO glass 위에 패턴전극을 현상할 수 있다.
LCD 표준 셀 제조실험 2 (Pattern 제작)

이론부터 토의 까지 있습니다.

목차

1. 실험목적
2.이론
3.실험과정
4. 실험기구 및 시약

1. Result & Data
2. Discussion

참고문헌

본문내용

1. 실험목적

ITO glass 위에 패턴전극을 현상할 수 있다.

) Development
현상은 삭각되어야 할 부분에 있는 PR를 제거하는 과정으로서 주어진 PR에 적합한 용제를 사용하여 선택적인 패턴을 형성할 수 있다.

2) Etching & Stripping
물리적, 화학적인 반응을 이용하여 Glass 상에 PR에 의하여 형성된 Pattern대로 박막을 선택적 제거함으로써 실제의 박막 Pat tern을 구현하는 방법으로, Pattern이 형성된 부분의 박막은 남게 되고 PR이 없는 부분의 박막은 제거된다. 식각 공정에는 Gas Plasma가 사용 되는 건식 식각과 화학용액을 이용하는 습식 식각방법이 있으며, Etching 후에는 유기용매 등에 의한 PR Strip 공정이 이루어진다.

에칭은 종래의 금속부식 가공기술이 진보된 기술로서 첨부된 제조공정도와 같이 가공하고자 하는 피 가공물의 설계된 형상을 정밀사진기술을 이용하여 재료 표면에 LAMINATING된 DRY FILM을 노광기를 통하여 감광시켜, 노광되지 않은 노출부를 화공약품(염화제2철)으로 강제 분사시켜 용해, 제거함으로써 초미세의 정밀 형상제품을 가공 생산하는 기술을 말하며, 프레스,레이져가공 등에 비하여 아래와 같은 장점으로 그 응용분야는 점차 확대가 예상되는 첨단가공기술로, 특히 반도체 기술의 향상으로 인한 소형화 대용량화에 필요한 칩 생산의 1차 가공제품으로 이 에칭기술이 가장 적합한 기술로 인정받고 있음.

참고 자료

평판 디스플레이 공학, 이준신 김도영 홍릉과학출판사,
정보디스플레이 소자의 기초 및 응용, 서대식, 숭실대학교 출판부,
액정:LCD의 기초와 응용, 백낙선, 겸지사,