[공학]할셀 시험

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할셀 시험(헐셀시험) 의 목적 및 방법

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본문내용

◎ 할셀 시험
1935년 경, R. O. Hull에 의해 개발된 할셀 시험법이, 간단한 조작으로 1매의 음극
시험편상에 연속적인 넓은 범위의 전류 밀도로 도금된 피막을 얻을 수가 있으며 더 나아가
서 여러 가지 현상이 목시로 관찰하기 쉬운 점도 있어 널리 보급되어 대표적인 전착성
시험법으로 되었다. 할셀조도 여러 종류가 발표되어 있으나 일반적으로 사용되고 있는 것은
그림 2-1(a)에 나타낸 267㎖ 조이며, 음극 시험편과 양극은 그림 (b)와 같이 배치된다.


음극 시험편상의 1차 전류분포(전류밀도로 표현하고있다.)는 할셀조의 크기에 따라 다르지만 267㎖저의 경우

Cd = I(a-b logL)

( Cd : 전류밀도(A/dm2), I : 전전류 (A),
L : 고전류밀도 측에서 측정한 음극판 상의 위치(Cm) , a : 5.10, b : 5.24)

의 식으로부터 계산되어 구해진다. 계산의 불편함을 없애고 총전류와 전류밀도분포의 관례를 일목요연하게 나타낸 그림 2-2과 같은 할셀스케일이 시판되고있다.
관찰 결과를 기록으로 남길경우는 도금한 시험편을 투명한 코팅제로 보호하든지 또는 석출상태를 그림 2-3과 같은 기호로 스케지 하여도 좋다.

참고 자료

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