[반도체] 박막두께측정

*영*

최초 등록일: 2004.11.09
최종 저작일: 2004.11; 5페이지/ 한컴오피스; 가격 1,000원

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-종래에는 증착 등으로 얻어지는 두께 1㎛ 이하의 막을 “박막”이라고 말했으나 현재의 박막이란 막의 원료를 원자나 분자까지 분해하고 목적하는 기판위에 분자를 다시 쌓아나가는 막을 가리킨다. 따라서 1) 고밀도에서 공공이 없는 박막, 2) 단결정에 가까운 고안정․고신뢰성박막 등이 요구되고 있으며 진공을 이용한 PVD(Physical Vapor Deposition)법, 고온반응을 사용하는 CVD(Chemical Vapor Deposition)법 등이 사용되고 있다. 이들 방법은 막의 두께를 고려하여 100㎛까지를 박막이라고 부른다

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