[재료공학] cvd(Chemical vapor deposition)

*경*

최초 등록일: 2004.05.13
최종 저작일: 2004.05; 3페이지/ 한컴오피스; 가격 1,000원

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열 CVD의 특징
장점: a) 원료 가스나 반응계(장치, 공급ㆍ배기)ㆍ조건의 설정에 따라 고순도의 박막이 형성된다.
b) 피복성이 좋다.
c) 플라즈마 CVD와 비교하여 장치 구성이 간단하다.
d) 플라즈마(이온)를 사용하지 않기 때문에 고속 입자의 충돌로 인한 손상이 없다.
e) 조건에 따라 선택 성장이 가능한 점 등을 들 수 있다.

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