[전자전기] 에칭(Etching)

등록일 2003.08.10 한글 (hwp) | 7페이지 | 가격 1,000원

목차

1. 에칭의 기본적 성질
2. 건식에칭

본문내용

에칭은 전자 디바이스를 제작하는데 없어서는 안될 가공기술의 하나이다. 에칭이 사용되는 목적은 크게 다음 3가지로 나눌 수 있다. 첫 번째는 결정표면을 청정화 하는데 있다. 두 번째는 재료의 평가에 있다. 세 번째는 오늘날 집적회로 제조기술의 핵심기술로서 가장 중요시되고 있는 미세가공분야에의 응용이다. 첫 번째와 두 번째의 미세가공 분야에서는 가공의 크기가 작게 됨에 따라서 화학적인 에칭반응 이외의 부수적인 사항들 때문에 문제가 되는 예를 볼 수 있다. 그 문제의 대부분은 에칭이 용액 중에서 행해지는 것에 기인하는 것으로서 이것을 피하기 위해서 건식에칭(dry etching)이라 부르는 기체 중에서의 기상반응에 의한 방법이 급속히 보급되기 시작하고 있다.

      최근 구매한 회원 학교정보 보기
      1. 최근 2주간 다운받은 회원수와 학교정보이며
         구매한 본인의 구매정보도 함께 표시됩니다.
      2. 매시 정각마다 업데이트 됩니다. (02:00 ~ 21:00)
      3. 구매자의 학교정보가 없는 경우 기타로 표시됩니다.
      최근 본 자료더보기