[전자전기] 에칭(Etching)

등록일 2003.08.10 한글 (hwp) | 7페이지 | 가격 1,000원

목차

1. 에칭의 기본적 성질
2. 건식에칭

본문내용

에칭은 전자 디바이스를 제작하는데 없어서는 안될 가공기술의 하나이다. 에칭이 사용되는 목적은 크게 다음 3가지로 나눌 수 있다. 첫 번째는 결정표면을 청정화 하는데 있다. 두 번째는 재료의 평가에 있다. 세 번째는 오늘날 집적회로 제조기술의 핵심기술로서 가장 중요시되고 있는 미세가공분야에의 응용이다. 첫 번째와 두 번째의 미세가공 분야에서는 가공의 크기가 작게 됨에 따라서 화학적인 에칭반응 이외의 부수적인 사항들 때문에 문제가 되는 예를 볼 수 있다. 그 문제의 대부분은 에칭이 용액 중에서 행해지는 것에 기인하는 것으로서 이것을 피하기 위해서 건식에칭(dry etching)이라 부르는 기체 중에서의 기상반응에 의한 방법이 급속히 보급되기 시작하고 있다.

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