[재료공학(고분자공학)] 감광성 고분자를 이용한 PR(Photoresist) 공정,고흡수성 수지를 이용한 흡수력 테스트

등록일 2003.06.23 한글 (hwp) | 9페이지 | 가격 700원

목차

없음

본문내용

실험 목적
새로운 기능성 소재인 감광성 고분자의 응용범위는 날로 확대되어 반도체 집적회로 제작(IC, LSI, VLSI)을 비롯하여 인쇄제판 재료, UV잉크,UV-접착제, 치과용 재료, 광디스크, 정보 기록용 재료 등에 폭넓게 이용되고 있다. 특히 광조사 전후의 변화한 용해도 차를 이용하는 고해상력의 Photoresist는 인쇄판, 전자부품의 제조와 가공 및, 반도체 소자에 이용되고 있다. 따라서 본 실험에서는 감광성 고분자를 이용한 PR(Photoresist) 공정을 해 봄으로써 사용되는 고분자의 종류, 광원 등의 차이에 따른 반도체 전사과정을 이해한다.

참고 자료

- Introduction to the Oragnic Chemistry, Brown
- Polymer Chemisty
- www.chemweb.com/alchem/2000/news/nw_001220_polyc.html
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