[재료] 나노 메카니즘에 관하여

등록일 2003.06.11 한글 (hwp) | 2페이지 | 가격 300원

목차

■NIL(Nano Imprint Lithography)
■Micro Contact Printing
■Nano Shadow Mask Pattering

본문내용

일상 생활을 하다보면 대중매체(신문,방송등)를 통해서 나노에 대해 많이 접하게 된다. 그런데 한국 기계 연구원의 정준호 박사를 초빙하여 강의를 들은 나노는 매우 생소했다. 그냥 나노라는 소리를 많이 듣기만 했지 나노는 무엇인가 자세히는 알지 못했는데 그나마 조금 알게 된 것 같다.
나노 프린팅 공정기술에는

☞NIL(Nano Imprint Lithography)
☞Micro Contact Printing
☞Nano Shadow Mask Pattering

1.NIL
주로 반도체에 사용되며 MIT에서 인정한 10대 기술로 선정되기도 했다.
100nm정도까지 표현이 가능하다. NIL의 원리는 stamp, resist, subatrate를 사용하여 subatrate위에 resist를 놓고 약 100∼250℃로 heating(이때 온도에 따라 면적이 변하기 때문에 임계온도를 고려)한 후에 원하는 모양의 stamp로 누른 다음에 solidify화한 다음에 stamp를 떼어 내면 원하는 모양을 얻을 수 있다.
여러 번 사용하면 이물질에 의해서 원하는 모양이 얻을 수 없을 수 있고, 여려번 사용하다 보면 stamp의 변형이 될 수 있는 문제점을 갖고 있다.
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