[전자소자] 반도체 확산공정

등록일 2003.05.23 MS 파워포인트 (ppt) | 28페이지 | 가격 1,500원

소개글

밤새가면서 만든 자료입니다.
많은 도움이 됐으면 합니다....^^

목차

1. 확산공정이란
2. 확산공정의 종류
3. 확산의 수학적 모델
4. 고정소스확산
5. 제한소스확산
6. 2단계 확산
7. 확산계수
8. Successive Diffusions
9.Solid-Solubility limits
10. Vertical Diffusion and Junction Formation
11. 수평확산
12. 농도의존적 확산
13. 시트저항
14. Junction-Depth Measurement
15. 확산 시뮬레이션 - 확산시스템
16. Gettering

본문내용

*Motivation
intentional impurity diffusion
unwanted impurity contamination
*Impurity Doping
control resistivity
low contact resistance
control gate impurity concentration
switching speed
gettering
shallow junction depth
*종류substitutionaldiffusion interstitial diffusion
Interstitialcy diffusion

농도 의존적 확산
Diffusion : 확산온도에서의 순물질의 캐리어 농도 ni보다 작은 불순물농도에 대해서 앞의 확산이론을 따른다. 이 농도 이상에서는 확산계수가 농도에 의존적.
일정한 확산계수를 갖는 경우에 비해서 확산 형태가 갑작스러운 결과.
→ 스케일된 VLSI 소자에서 회망되는 얕은 접합의 형성에 가치

참고 자료

반도체공정개론, 저자 Richard C. Jaeger
*원하는 자료를 검색 해 보세요.
  • 반도체소자와공정-1 21 페이지
    5) 확산공정과 이온주입공정 이온 주입공정이란? 1) 이온들은 이온 빔을 이용하여 반도체 속에 주입된다. 장점은 불순물..
  • [반도체공정]반도체공정 9 페이지
    ①산화(Oxidation) 공정 실리콘 웨이퍼 표면을 산화시키는 공정을 산화(oxidation)라고 하며, 웨이퍼 표면에 형성된 산화 실리콘 층을 산화층 또는 산화막이라고 부른다. 산화 실리콘은 낮은 상대 유전률을 갖은 유전..
  • 도체, 반도체, 부도체의 역사(history)에 대하여 4 페이지
    도체, 반도체, 부도체의 역사(history)에 대하여 ? 도체 정의 : 전기 또는 열에 대한 저항이 매우 작아 전기나 열을 잘 전달하는 물체. 은, 구리, 알루미늄 등이 있으며, 전도체라고도 한다. ? 부도체 전기..
  • 반도체 제조 공정의 종류와 기법 서술 17 페이지
    사진공정을 통해 집적회로를 구성하는 트랜지스터,저항,커패시터 등에 해당하는 패턴을 웨이퍼의 표면에 구현한다. 반도체 제조공정에서는 이러한 과정들이 여라 차례 반복되면서 하나의 칩을 만들어 내게 된다.가장 중요한 반도체 기술이 ..
  • 반도체 공정 2 페이지
    What is oxidation in the silicon process? Describe properties of silicon dioxide (SiO2). Silicon wafer의 표면에 얇은 silicon dioxid..

이 자료와 함께 구매한 자료

      최근 구매한 회원 학교정보 보기
      1. 최근 2주간 다운받은 회원수와 학교정보이며
         구매한 본인의 구매정보도 함께 표시됩니다.
      2. 매시 정각마다 업데이트 됩니다. (02:00 ~ 21:00)
      3. 구매자의 학교정보가 없는 경우 기타로 표시됩니다.
      최근 본 자료더보기
      추천도서