오존층의생성과고갈원인

등록일 2003.05.20 | 최종수정일 2016.04.10 한글 (hwp) | 8페이지 | 가격 1,000원

소개글

오존층의 생성과 고갈원인..

목차

1, 오존층의 생성원인은 무엇인가?
2, 오존층의 파괴의 원인
3, 오존층 파괴의 실태와 그 피해
4, 오존층 파괴를 막기 위한 세계의 움직임

본문내용

오존층을 파괴하는 물질은 미국의 제너럴 모터스(GM)사에서 냉장고의 냉각제로 개발되어 듀퐁(DuPont)사에서 '프레온'이라는 상표명으로 생산된 염화불화탄소(CFCs)와 소화기에 사용되는 할론(Hallon)가스 등의 특정물질이다. 프레온 가스는 냄새도 없고 독성도 없으며 불에 타지도 않고 화학적으로도 매우 안정된 물질로서 냉장고, 에어컨 등의 냉매, 스티로폼 등을 만들 때 사용하는 발포제, 드라이크리닝 용제, 반도체나 정밀 부품 세척제, 스프레이와 같은 분사제 등에 이용되는 물질이다.7 특정물질이란 세정제로 사용되는 1,1,1-TCE 및 CFC-113을 말하며, [오존층 보호를 위한 특정물질의 제조규제 등에 관한 법률] 제2조 1항에서 정한 오존층 파괴물질에 관한 몬트리올 의정서에 규정된 오존층 파괴물질로서 대통령령(시행령 제2조 1항)이 정하는 화학물질을 말한다. 이 중에서 현재 세계적으로 전자부품, 정밀기계 부품의 세정제로서 1,1,1-TCE 또는 CFC-113이 주로 사용되고 있다.
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