다양한 리소그래피법을 이용한 나노구조 형성

소개글

다양한 리소그래피 법을 소개
나노 구조 형성법
차세대 리소그래피법 소개

목차

없음

본문내용

Lithography기술이란?
-접속회로제작시 실리콘칩 표면에 패턴을 제작하는 기술
-짧은 파장의 빛을 사용하여 정밀도 높이는 것이 핵심.

전자빔 리소그래피
(EBL: Electron Beam Lithography)
-극자외선 리소그래피와 더불어 가장 유망한
차세대 리소그래피

장점
-파장이 짧아 해상도에 제한을 받지않음
-자동화를 통한 정밀제어가 가능
-포토 리소그래피에 비해 초점심도가 깊음
-마스크 없이 직접 패터닝이 가능
단점
-직접패터닝 경우 작업속도가 느림
-고비용

Conclusion

-optical lithography의 한계에 봉착하여 차세대 lithography
기술 필요
-차세대 lithography의 실제 생산라인 적용 위해서
Cost o Ownership, 생산량(wafer perhour), defects density의 개선이 필요
-EUVL, XRL, IBL 등 각 차세대 lithography의 단점 개선

참고 자료

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