[직접회로] 생기교육자료 ETCH 사진2

등록일 2002.12.22 MS 파워포인트 (ppt) | 42페이지 | 가격 500원

소개글

생기교육자료 ETCH 의 첨부자료입니다.

목차

1. ROADMAP

2. 장치 개요
2-1. EXPOSURE
2-2. TRACK

3. 공정 개요
3-1. PHOTO 공정 FLOW SEQ.
3-2. COATER
3-3. DEVELOPER
3-4. EXPOSURE

4. MATERIAL
4-1. PHOTORESIST
4-2. ARC
4-3. POLYIMIDE

5. CHECK ITEM
5-1. EXPOSURE
5-2. TRACK

본문내용

DEVELOPER FLOW

Post Exposure Bake로써 Profile의
Standing Wave 제거 목적.
Standing Wave는 노광시 PR 성분중
PAC의 농도의 차이로 인해 Profile이
Wave지는 현상으로, 열을가해 PAC의 농도를
Diffusion시켜 Profile을 좋게함.
온도 설정은 PAC분해 온도(130℃)이하,
S/B와 20℃ 정도 차이인 110~120℃/120"
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