확산(Diffusion) 공정

등록일 2002.12.22 MS 파워포인트 (ppt) | 60페이지 | 가격 1,500원

목차

확산의 목적
확산의 개념
원자의 확산 방법
대표적인 결함
도핑방법
확산의 종류

확산(Diffusion) 공정
확산의 조건
확산공정의 과정
초기 세척 및 etch
Process of Diffusion

Pre-Deposition
Pre-Deposition의 개념
Pre-Deposition 의 요소
Pre-Deposition 의 가변 계수
Pre-Deposition 의 과정
설비방식
2 단계 확산의 비교
2단계 확산의 이점
확산 공정의 종류
확산 장비의 종류
확산펌프
확산공정 모습

본문내용

확산(Diffusion) 공정
확산의 목적
확산의 개념
도핑방법
확산의 목적
PN접합을 만들기 위한 것
일정한 종류의 캐리어와 일정한 비저항을
얻기 위해
• 금속과 실리콘의 접촉 저항을 낮추기 위해
• 표면 전계 효과 소자의 특성 조절을 위해
• 캐리어의 재결합을 증가시켜서 고속의 포화 개폐 소자를 만들기 위해
• 소자 제조 과정에서 불순물을 제거하거나 게더링 하기 위하여 다른 불순물의 유도를 위해
확산의 개념
반도체 공정의 의미로서 확산이라 함은 전기로의 고온을 이용하여 고체 상태의 WAFER 표면에 필요한 불순물이나 산화막을 WAFER 표면에 주입시키는 것을 말한다. 전도성을 바꾸는 방법의 하나로 사용되어진다.
반도체공정에서는 액체간의 확산이 아니라 고체간의 확산이 이루어지며, 빠른 확산을 위해 환경을 고온처리 해주어야 한다.
*원하는 자료를 검색 해 보세요.
  • [반도체공정] 확산공정 60페이지
    ..PAGE:1 확산(Diffusion) 공정 청주대학교 정보통신공학부 97410235 정 해 원 ..PAGE:2 확산(Diffusion) 공정 확산의 목적 확산의 개념 도핑방법 ..PAGE:3 확산의 목적 PN접합을 만들기 위한 것 일정한 종류의 캐리어와 일정한 비저..
  • [전자소자] 반도체 확산공정 28페이지
    확산공정(Diffusion) 김서진 확산공정 Motivation intentional impurity diffusion unwanted impurity contamination Impurity Doping control resistivity low contact res..
  • 반도체 공정 50페이지
    Trust Technology 원자 전기적 인력 = 관성 가전자 : 가장 외곽에 있는 전자(바깥 전자가 모든 것을 결정) Ex.) Mg : 1s22s22p63s2 원자가 = 2 반도체 재료 및 결정구조 SiC:Silicon carbon GaN:Gallium nitrid..
  • 디스플레이 물성및재료 반도체 제조공정 디스플레이 제조공정1 26페이지
    조 원 이근형, 민병철, 배정훈, 김용해 발표자 김용해 Diffusion 공정 목 차 1. Diffusion의 정의 및 종류 1)산화 공정 2)확산 공정 3)L P - C V D 공정 4)EPI 공정 2. 평가 방법 diffusion의 정의 및 종류 Diffusion(..
  • 산화와 확산 그리고 이온주입 (Oxidation & Diffusion & Ion implantation)의 원리와 이론 그리고 장비 69페이지
    Oxidation Ion Implantation Diffusion Conduction Band Valence Band What’s the Semiconductor? 전류가 흐르는 물질을 도체 전류가 흐르지 않는 물질을 부도체 전기전도도가 도체와 부도체의 중간 정도 되는..
  • [공학]기초 반도체 공정 125페이지
    웨이퍼 제조 Bridgman growth Float Zone Growth 진성 반도체 N-형반도체 p-형반도체 산화공정 산화막형성은 실리콘 집적 회로 제작에서 가장 기본적이며 자주 사용되는 공정 T 200 ℃ : anodization : ethylene glycol +..
  • 반도체 Diffusion Area 에서의 Conveyor Capability Simulation (Conveyor Capability Simulation for Semiconductor Diffusion Area) (Conveyor Capability Simulation for Semiconductor Diffusion Area) 5페이지
    92~3년 A 라인에서 처음으로 Bay 내에 Conveyor (Intra) 사용한 Stocker to Equipment 에서 Material (Lot) Moving을 위한 Project를 실시하였으나 예상과는 달리 Conveyor Capability가 부족하여 장비에서..
더보기
      최근 구매한 회원 학교정보 보기
      1. 최근 2주간 다운받은 회원수와 학교정보이며
         구매한 본인의 구매정보도 함께 표시됩니다.
      2. 매시 정각마다 업데이트 됩니다. (02:00 ~ 21:00)
      3. 구매자의 학교정보가 없는 경우 기타로 표시됩니다.
      4. 지식포인트 보유 시 지식포인트가 차감되며
         미보유 시 아이디당 1일 3회만 제공됩니다.
      상세하단 배너
      최근 본 자료더보기
      상세우측 배너
      추천도서
      확산(Diffusion) 공정