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[반도체] 스퍼터링

등록일 2002.12.08 한글 (hwp) | 17페이지 | 가격 1,500원

소개글

많은 도움이 되셨으면 실험 결과와 고찰두 있습니다,

목차

1. 스퍼터링
1)이온과 고체 표면과의 반응
2) 스퍼터율( s p u t t e r y i e l d )
※스퍼터의 종류
※스퍼터링의 응용
▶실험 결과
▶실험 고찰

본문내용

1. 스퍼터링

스퍼터링(sputtering) 현상은 1852년 Grove에 의하여 처음 발견되었으며[3], 현재는 여러 가지 박막의 형성에 광범위하게 사용되어지고 있다. 스퍼터링(sputtering)은 높은 에너지(> 30 eV)를 가진 입자들이 target에 충돌하여 target 원자들에게 에너지를 전달해줌으로써 target원자들이 방출되는 현상이다. 만일 충돌하는 입자들이 양의 이온(positive -ion)이라면 cathodic sputtering이라고 부르는데, 대부분의 스퍼터링은 cathodic sputtering이다.
보통 스퍼터링에는 양의 이온이 많이 사용되는데, 그 이유는 양의 이온은 전장(electricfield)을 인가해 줌으로써 가속하기가 쉽고 또한 target에 충돌하기 직전 target에서 방출되는 Auger전자에 의하여 중성화되어 중성 원자로 target에 충돌하기 때문이다.
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