Working Pressure에 따른 Ti의 증착율과 비저항의 변화

소개글

Working Pressure에 따른 Ti의 증착율과 비저항의 변화 (주어진 값에 따른 결과값 및 그래프)

목차

1. 실험 제목

2. 실험 날짜

3. 실험 조건

4. 실험 방법

5. 실험 결과

6. 그래프

7. 토의 및 분석

본문내용

7. 토의 및 분석

그래프 A는 Working Pressure와 Thickness의 상관관계를 나타내는 그래프이다. 위 그래프는 기판에 가해지는 압력이 높아질수록 scattering에 의해 에너지가 낮아지고 그 결과 thickness가 줄어드는 결과를 초래한다는 것을 보여주고 있다. 그래프 B는 Working Pressure와 Resistivity의 상관관계를 나타내는 그래프이다. Working Pressure가 증가함에 따라 Resistivity 또한 증가하고 있다. 1 mTorr의 가스압력에서 형성되는 Ti의 입자는 4, 7 mTorr의 압력에서 생성된 입자보다 긴 평균자유행로를 가지기 때문에 주위 입자들과 충돌되는 양이 현저히 감소하여 양질의 박막이 형성되어 낮은 저항도가 얻어지는 것으로 해석할 수 있다.

참고 자료

없음