나노테크날리지
- 최초 등록일
- 2002.11.05
- 최종 저작일
- 2002.11
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목차
Nano-technology
1. 나노테크놀로지(nano technology) 연구개발 추진에 즈음한 기본적 시점
2. 중점투자를 행해야 할 분야
3. 연구 체제·시스템(system)의 정비·충실
4. 마침
본문내용
"Nano-technology는 0.1 - 0.001 micrometer (10-9 meter)이하의 크기를 가지는 구조를 반도체, 원자 및 분자구조, 생물체 구조에 형성시키는 극한, 초정밀 가공기술이다."
1998년 4월 미국 국회에서 연설한 Neal Lane 박사의 "만일 내가 미래의 과학 및 공학에서 대 변혁을 가져올 분야에 대하여 질문 받는다면 나는 nanoscale 과학 및 공학을 꼽겠다."라는 언급은 nano-기술이 21세기의 중요한 key-technology 임을 지시한다.
1980년 중반까지 1 micrometer(10-6 meter) 보다 작은 소자크기를 가지는 반도체 집적회로를 만들 수 없을 것이라고 생각되었다. 2000년에 들어선 지금 인간은 0.175 micrometer 선폭을 가지는 1 Gbyte DRAM을 대량 생산하고 UV(자외선) → deep UV (350 nm 내외 광파 : 수은등, excimer laser등 사용) → extreme UV (250 nm 내외 광파 : excimer laser 사용)등을 사용하는 optical lithography의 계속적인 발전을 이룩했고 X-ray lithography 기술의 성숙, electron-beam lithgraphy 및 기타 ion-beam등의 source를 사용하여 0.01 micrometer의 초미세 선폭을 가지는 구조를 성형할 수 있게 되었다.
참고 자료
없음