Color TFT-LCD 제조기술

소개글

Color TFT-LCD 제조기술에 대하여 매우 상세히 설명된 자료입니다.

목차

2.1 Color TFT-LCD의 양산
2.2 단위 공정기술
2.2.1 세정 기술
2.2.2 박막 형성기술
2.2.3 Photolithography 기술
2.2.4 박막 Etching 기술
2.2.5 검사기술
2.3 TFT-Array 패널 제조공정
2.3.1 Etch-back type TFT-Array 제조공정
2.3.2 Etch-stopper type TFT-Array 제조공정
2.4 Color Filter 제조공정
2.4.1 Color Filter 제조공법
2.4.2 Black Matrix 형성
2.4.3 RGB Pattern 형성
2.4.4 공통전극 형성
2.5 액정 Cell 공정
2.5.1 배향막 형성
2.5.2 Rubbing 공정
2.5.3 Spacer 산포
2.5.4 Sealant와 Short 형성
2.5.5 상하 기판 Assembly
2.5.6 액정 주입
2.5.7 검사 및 편광판 부착
2.6 모듈 조립공정

본문내용

1854년 액정이 처음 발견되고 1889년 독일의 Lehmann에 의해 Liquid Crystal (액정)로 명명되어 액정에 대한 물성 연구가 본격적으로 시작된 후 1920년까지 300종 이상의 액정이 합성되기에 이르렀다. 그러나 액정 물질이 처음 발견된 후 응용 제품으로 인류에 첫 선을 보이게 되기 까지는 100년 이상의 세월이 걸렸다. 액정을 이용한 최초의 응용제품은 1962년 RCA사에 의한 DSM-LCD(dynamic scattering mode LCD) 발명이 시초이며 본격적인 상품화의 촉발은 1971년 Sharp사에서 TN-LCD를 이용한 액정 손목시계를 발매한 때부터 시작되었다. TFT-LCD의 본격적인 양산은 1990년대 초에 이르러 비로소 시작되었다. 최근의 정보화 사회에서 디스플레이는 시각정보 전달매체로서 그 중요성이 더한층 강조되고있다. 특히 모든 전자 제품의 경-박-단-소 화 추세에 따라 저 소비전력화, 박형 경량화, 고화질, 휴대성을 갖춘 평판 디스플레이(Flat panel display: FPD의 중요성이 더한층 높아지고있다. TFT-LCD는 FPD의 이러한 조건들을 만족시킬 수 있는 성능뿐만 아니라 양산성까지 갖춘 디스플레이 장치이기 때문에 이를 이용한 각종 신제품 창출이 급속도로 이루어지고 있으며 기존 전자제품의 CRT(Cathode Ray Tube)를 점진적으로 대체할 수 있는 핵심부품 산업으로서 전자산업에서 반도체 이상의 파급효과를 가져오고있다.

참고 자료

<참고문헌>
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