나노과학 리소그래피기술

소개글

나노과학이란 주제로
이빔 리소그래피 기술에 대한 발표자료 입니다.

목차

① 나노기술
② Lithography
③ Electron-beam lithography
( 정의, 원리, 장단점, 기술현황 )

“ 나노기술 > Lithography > Electron-beam Lithography ”

본문내용

< 나노기술의 두 가지 접근방법 >

1) top-down (하향식 기술) 방식
: 반도체 회로를 제작하는 경우처럼,
어떤 소재를 극도로 미세하게 가공하는 방식.
“ ex) Lithography기술 ”

2) bottom-up (상향식 기술) 방식
: 물질 기본 구성단위인 원자, 분자 수준부터
조립해 나가는 방식.

-> 현재는, 두 가지가 절충된 ‘하이브리드 방식’이 많이 이용됨.
  : 불필요한 것은 깎아버리고, 필요한 것은 붙이는 방식.
-> 어원 : 그리스어, 돌(litho) + 인쇄(graphy)
석판에 잉크를 발라 종이에 찍어내는 석판 인쇄술.
나노기술에서는, 반도체위에 극미세한 패턴을 인쇄하는 공정을 의미함.

-> 적절한 파장의 빛과 마스크(;회로 패턴이 인쇄된 유리판)를 이용하여,
회로판 위 방어막 역할을 하는 유기물의 특정 패턴을 정확한 위치에 전
사하는 공정.

-> 이 기술의 핵심은 짧은 파장의 빛을 사용하여 정밀도를 높이는 것으
로, 처음에는 가시광선, 자외선을 사용했으나 최근에는 전자빔을 사용
하여 더 미세한 패턴을 만들 수 있음.

참고 자료

없음