Electron Beam Forming
- 최초 등록일
- 2009.07.31
- 최종 저작일
- 2009.07
- 8페이지/ MS 파워포인트
- 가격 1,500원
소개글
Electron Beam Forming의 정의 및 과정 해결해야할 문제등에 대해 조사한 자료입니다.
목차
1. Principles
2. Removal Process
3. Removal Problem
4. Type of EBF
본문내용
1. Principles
- 전자빔을 가공물에 투사
- 전자들이 가공물과 충돌하면서 비탄성 충돌로인한 손실발생
- 가공물에 침투한 전자들의 에너지로 인한 다양한 현상발생
1. Electron Penetration (전자침투력)
- 낮은 전자에너지와 높은 밀도의 재질을 선택
- Steel & Aluminium 7~20㎛ 깊이까지 침투 가능
2. Heat Generation (발열)
- Kinetic Energy Heat Energy
- 높은밀도의 전력 + 짧은 펄스 = 높은온도 & 좁은 범위
3. Chemical Reaction
- 전자 투사 제2의 전자발생 (이온화 하거나 분자나 원자를 자극)
- Electron Beam Lithography 와 재질의 고유성질을 바꾸는데 이용
참고 자료
없음