[Chemical Vapor Deposition ] CVD

등록일 2001.11.21 한글 (hwp) | 26페이지 | 가격 1,000원

소개글

CVD에 관해 정말 정리가 잘 되어 있습니다.
전공세미나 발표자료입니다.
여러가지 자료들을 종합해서 참고자료는...^^

목차

Ⅰ. CVD 의 정의, 원리
1. CVD의 정의
2. CVD 성장기구
3. CVD 반응의 분류
Ⅱ. CVD 장치의 기본원리, 박막 증착, 분석
1. CVD 장치
2. CVD 증착과정 및 분석
Ⅲ. CVD 종류
1. PECVD
2. PACVD
3 MOCVD
Ⅳ. CVD의 응용 분야 및 기대효과
Ⅳ. 결론

본문내용

박막은 여러가지 방법으로 제조될 수 있는데, 그 중에서 무엇보다도 CVD (Chamical Vapor Deposition)가 가장 널리 쓰이고 있다. CVD란 증착될 물질의 원자를 포함하고 있는 기체상태의 화합물을 이 기체가 반응을 일으킬 수 있는 환경을 갖는 반응실로 유입하여 화학적 반응에 의해 기판 표면 위에서 박막이나 에피층을 형성하는 것이다. CVD는 다양성, 적용성, 제품의 품질, 단순성, 재활용성, 생산성, 가격문제 등에서 매우 큰 장점을 가지고 있다. 이러한 이유로 CVD는 고체 소자의 제조에 있어서 그 활동영역을 크게 확장시켜왔다. CVD 공정은 여러가지 방법으로 분류될 수 있는데, 먼저 사용되는 반응의 활성화 에너지원에 따라 thermally-activated CVD , plasma-enhanced CVD, photochemical CVD, laser-induced CVD, and electron-beam assisted CVD로 분류될 수 있다.
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